7月9日，由中国材料研究学会主办的集成电路材料产业创新发展论坛在深圳国际会展中心举行，该论坛是中国材料大会2022-2023的分论坛之一。
来自北京、上海、江苏、广州、深圳等地的企业和科研机构、高校代表围绕我国集成电路材料产业需求和未来发展方向，探索集成电路材料的国产化突围路径，为构建“产学研用”紧密互联的产业融合及联动机制建言献策。
中国科学院深圳先进技术研究院院长樊建平表示，集成电路材料是我国亟待解决的“卡脖子”核心关键技术之一，其彻底突破有赖于基础研究和应用基础研究能力的提升。近年来，深圳规划建设一批大科学装置和基础研究机构，其目的就是从基础研究和应用基础研究入手，推动前沿技术、关键共性技术创新，支撑未来产业发展。
其中，依托中科院深圳先进院建设的深圳先进电子材料国际创新研究院，就是为提高集成电路材料领域先进电子材料应用基础研究能力的有益探索。目前，该院已与国内多家龙头企业建立紧密合作，多款关键材料正在量产并导入市场。
中国科学院院士彭孝军在演讲中介绍，半导体材料的发展历史在光刻方面是沿着从可见光区到紫外区，最后到深紫外区、极紫外区的轨迹。目前我国的主流产品水平还在紫外区，在深紫外区还处于探索和量化的规划之中，极紫外区仍是一个产业性的空缺。
“这种状况严重制约了我国其他行业的发展。”彭孝军指出，光刻机的很多零部件都是从全世界各个地方而来，我国要自主开发的话，一方面需要弯道超车，另一方面需要做长期的基础研究和产业投入的准备工作。
先进光源在推动量子材料、先进光刻技术、生物科技、能源科学、星际科学等前沿科学研究中有着广泛应用。据悉，深圳正在推进先进光源计划。彭孝军建议，开展基础研究要加大区域合作，统筹全国相关领域的研究力量。在深圳光源还没建好的情况下，要充分利用现有大科学装置和大设施，共同开展有益探索。他同时建议，深圳要加快材料研发和专利布局，发挥人才多、研发单位多的新型举国体制优势。同时，大型企业要充分参与。
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